半導体製造に欠かせないフォトレジストのパイオニアとして微細化、3次元構造のそれぞれのプロセスに強みを持つ材料をラインアップしています。またフォトレジスト以外にも高純度化学薬品など、優れた特徴を持つ材料を提供しています。ここでは、半導体の前工程(FEOL)にフォーカスし、工程に応じた当社の製品をご紹介します。
半導体製造の前工程だけでなく、後工程(パッケージに封入する工程)にも強みを持っています。
バンプ形成用フォトレジストや、ウエハレベルCSP用フォトレジスト、TSV用フォトレジストは、半導体のさらなる小型化・高密度化に貢献します。半導体実装に関わるフォトレジストや化学薬品をご紹介します。
スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオなどはもちろん、さまざまな製品の小型化・高機能化をセンサが支えています。東京応化工業では、最先端の各種実装プロセスに最適なフォトレジストを開発することで、センサ技術の向上に貢献しています。ここではCMOSセンサを例に、関連する製品を紹介します。
軽い・薄い・高画質などのパネルの製造分野。一方で「ウエアラブルディスプレイ」や「フレキシブルディスプレイ」など最先端技術の研究開発も急加速で進んでいます。東京応化工業は、材料技術と高い均一精度を誇るコーティング技術の相乗効果により、ディスプレイの高精細化と経済性の両立に貢献します。ここではディスプレイ製造に関わる当社製品をご紹介します。
当社が提供する技術・製品はフォトリソグラフィ分野に限りません。半導体製造の工程で培った世界最高水準の純度を実現した洗浄液・シンナー・現像液、また各種の無機・有機化学薬品はさまざまな産業分野で活躍しています。当社の化学薬品の幅広い用途分野から、ぜひ貴社の開発ニーズに合ったものを見つけてください。
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