現像液・リンス液

現像液は露光部を残存させるネガ型では多くの場合は有機溶剤が使用されます。レジスト成分を有機溶剤で膨潤させることから、現像後には同じく溶剤のリンス液が必要です。未露光部を残存させるポジ型の場合はアルカリ現像液が用いられます。アルカリ現像液として通常はTMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)を用います。金属イオンを含まない有機アルカリ現像液ですから、半導体プロセスで使用できます。その濃度は一般的には2.38%が用いられますが、当社ではご使用のプロセスに応じて各種濃度を用意しています。リンス液は純水を使用します。

ゴム系ネガ型フォトレジストの専用現像液とリンス液

OMRネガレジスト専用現像液です。スプレー又はディッピングで使用します。OMR現像液は溶解性が遅いと解像性は良い傾向がありますので、用途に応じて選択することが必要です。OMRリンスの目的は現像で膨潤したレジストの収縮と基板の洗浄です。

ポジ型フォトレジストの無機系アルカリ現像液

無機アルカリ現像液のため、金属不純物の汚染の心配があり、半導体プロセスの使用にはお勧めしません。OFPR現像液シリーズはスプレー、ディッピング、パドル現像で使用できます。OFPR現像液3は原液タイプのため純水で2:1又は1:1で希釈して使用します。OFPR現像液4、5、6事前に希釈したタイプです。

フォトレジストの有機系アルカリ現像液
（メタルフリー）

• 濡れ性が良好です。（表面張力が小さい）
• ウェハ面内の寸法のばらつきが少ない。
• 現像液温度に対する露光量依存性が少ない。
• 脱泡性があります。