当社が提供する材料に関して、お客様からよくいただくご質問を、Q&A形式でご紹介しています。
こちらにない質問に関しては、お手数ですがお問い合わせフォームよりご連絡ください。後日、担当者よりご連絡いたします。

キャラクター

プロセスについて

リソグラフィーとは?
語源はギリシャ語でlithosは石、graphiaは書くという意味です。つまりリソグラフィーとはSiウエハの上に感光性樹脂液のフォトレジストを使ってパターンを描くことです。
微細加工プロセスとは?
半導体の加工プロセスは薄膜形成、微細加工、不純物導入の繰り返しです。微細加工(フォトリソグラフィー)プロセスとはレジストを露光、現像し、エッチング、不純物導入に際して残ったレジストが基板を保護するものです。
微細加工プロセス
前処理は何をしますか?
異物(パーティクル)状のための洗浄処理、デハイドレーションベーク(脱水ベーク)、HMDS処理を行います。
HMDS処理とは?
ウエハ表面は親水性でフォトレジストとの密着性が悪いためHMDS処理を行って疎水性にすることで密着性を向上させます。
HMDS処理
ストリエーションとは?
レジストを塗布する際に、平滑な塗面にならないでうろこ状の凹凸や、放射状になる塗布ムラをいう。レジストの有機溶剤は乾燥速度が速いため、回転塗布する際の蒸発のバラツキにより発生します。
PCD、PEDとはなんですか?
それぞれPCD(Pos t Coating Delay)、PED(Post Exposure De l ay)の略で、塗布後又は露光後の次の工程までの時間にバラツキがあったり、放置によって寸法の変化、現像不良が起きるため、工程間の時間は一定にする必要があります。
エッジリンス/バックリンスとは?
コーターで塗布されたレジストがウエハの端や裏面に残った場合にダストの原因になるためシンナー液で除去します。
エッジリンス/バックリンス
スゥィングカーブとはなんですか?
塗布したレジスト厚は回転速度の平方根に反比例して、粘度に比例しますが、露光現像後には露光量、基板の反射率、定在波などの要因により線幅はこのようなスウィングカーブを描きます。
スゥィングカーブ
PEBの効果とは?
PEB(Post Exposure Bake)とは、露光後にウエハをベーク処理することです。露光後のベークにより、化学増幅レジストにおいては、ベークの熱エネルギーによって露光エリアの化学反応を増幅させます。PEB処理の効果の一つとして、光の入射波と基板からの反射波によりレジスト内部で生まれた定在波の影響でレジスト側面が波形状(山と谷)となりますが、熱エネルギーによる反応の均一化によりレジストパターン側面の平坦性が向上します。
PEBの効果
板からの反射に対する対策はありますか?
表面反射に対しては表面反射防止膜、レジスト液中の反射には染料添加しますが、反射率や段差など他の要因にも対応するため多くの保護膜があります。
反射に対する対策
UVキュアーとは?
紫外線(UV)を照射することで、レジスト中の樹脂を高分子化(硬化:キュアリング)して耐熱性を向上させるプロセスです。
発泡の原因とは?
レジスト中の感光材の分解によるN2ガスが、レジスト膜中を抜けきらない場合に発泡現象が発生します。プロセスからの対策としてHMDS処理時間を短く、レジスト膜厚を低く、プレベーク温度を高くします。
スカム発生の原因と対策とは?
スカムの発生要因は様々です。主な理由は露光部の現像液に対する溶け残り、現像液に溶解したものの再析出、基板との密着性などです。従ってその低減には、発生要因にあった対策をとる必要があります。
キャラクター

製品や保証について

QT瓶、GA瓶、キャニスター缶とは?
フォトレジストは伝統的にQT(クォート)瓶、GA(ガロン)瓶と呼ばれる褐色ガラス瓶に入っています。それぞれ0.946L、3.785Lです。キャニスター缶はステンレンのリンク容器で、18L容量があります。
SDSとは何か?
SDS(Safety Data Sheet) 化学物質等の危険又は有害な性質等についてのデータや情報を収録したシートのことで、取扱者が製品の危険・有害な性質を事前に把握し、適切な使用・取り扱いを行うことで、労働災害等を未然に防止する目的としています。
保証期間、保証温度、納期等は?
レジストは基本的に受注生産で、納期は4週間以上掛かります。余裕を持った発注をお願いいたします。
ご使用に際しては最新のSDS、ラベル表示をご参照の上、取り扱いには十分ご注意ください。
保証期間・保証温度は製品ごとに異なるため、お問い合わせください。
HMDS処理とは?
ウエハ表面は親水性でフォトレジストとの密着性が悪いためHMDS処理を行って疎水性にすることで密着性を向上させます。
レジストは保冷庫から出してすぐに使えますか?
保冷庫の温度や瓶の大きさによりますが、常温に戻るには数時間かかります。レジストや現像液の温度は一定にして使用しませんと、感度の変動する原因になります。
コーターの配管洗浄の必要性とは?
配管洗浄は新しいコーターの立ち上げに行いますが、その後は異物の発生を防止するため2~3か月毎に定期的な洗浄が必要です。

製品一覧

製品を用途と製品カテゴリからお探しいただけます。

用途から探す

半導体やディスプレイ、センサーなどの製造工程ごとの概要と、そこで活躍する当社製品をご紹介します。

用途から探す

カテゴリーから探す

当社を代表するフォトレジスト製品をはじめ、構造形成材料や機能性材料、高純度化学薬品、プロセス機器などをご紹介します。

カテゴリーから探す

お問い合わせ・資料ダウンロード

ご要望やお困りごとがありましたらお問い合わせください。
各製品に関する資料もダウンロードいただけます。

PAGE TOP