EBレジスト

電子線にパターニング特性を持ったEBレジスト

電子線にパターニング特性を持ったEBレジストです。主に半導体用フォトマスク作成用に対応しております。高感度、パターン安定性を有したポジ型、ネガ型両タイプをご用意しております。

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ポジタイプ OEBR-CAP シリーズ

感度優先と解像度優先のそれぞれ3タイプのポジタイプをご用意しております。

ネガタイプ OEBR-CAN シリーズ

ネガティブトーンタイプのEB描画用レジストもご用意しております。

文中のOEBRはTOKの出願中または登録商標です