高透過率、高信頼性の膜を形成できる特殊用途フォトレジスト
可視光領域において透過率98%以上の高透過性を確保したフォトリソプロセスにてパターニング可能な製品を取り揃えております。フォトリソパターニング後に熱フロー又はエッチングにて凸レンズ状の透明絶縁層を形成できます。メムスセンサー、CISマイクロレンズ、透明絶縁層として適用可能な高透過率、高信頼性の膜を形成できる特殊用途フォトレジストです。
また、400nm以上の波長領域にて透過率99%、屈折率nk=1.51~1.53の特性を有する非感光性の透明接着剤も取り揃えております。透明接着剤は、半導体チップとガラス基板の永久接合や光センサーとガラス基板の実装にも適用が可能です。
TMRシリーズはCISのマイクロレンズの適用のために開発された製品です。フォトリソグラフィー工程にてパターンニングしバリアコート層等にも適用可能。熱加工にて半球体の形状の透明膜層を形成可能です。高透過率、凸レンズ形状(熱フロー)下地との高密着性を有した透明構造体を形成できます。
文中のTMRはTOKの出願中または登録商標です
測定サンプル | :TMR-P17 PM |
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基板 | :1737 ガラス |
膜厚 | :0.6um |
プリベーク | :90℃ 90秒 |
ブリーチ処理 | :100mJ (g.h.l-line) |
1st ポストベーク | :130℃-5分 |
2nd ポストベーク | :200℃-5分 |
HTS テスト | :250℃-60分 (オーブン) |
光波長 | 400nm | 450nm | 500nm | 550nm | 600nm | 630nm |
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HTS 処理前 | 97 | 98 | 99 | 99 | 99 | 99 |
HTS 処理後 | 95 | 97 | 99 | 99 | 99 | 99 |
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