マイクロレンズ材料

高透過率、高信頼性の膜を形成できる特殊用途フォトレジスト

可視光領域において透過率98%以上の高透過性を確保したフォトリソプロセスにてパターニング可能な製品を取り揃えております。フォトリソパターニング後に熱フロー又はエッチングにて凸レンズ状の透明絶縁層を形成できます。メムスセンサー、CISマイクロレンズ、透明絶縁層として適用可能な高透過率、高信頼性の膜を形成できる特殊用途フォトレジストです。
また、400nm以上の波長領域にて透過率99%、屈折率nk=1.51~1.53の特性を有する非感光性の透明接着剤も取り揃えております。透明接着剤は、半導体チップとガラス基板の永久接合や光センサーとガラス基板の実装にも適用が可能です。

関連技術情報

透明構造体形成材料

TMRシリーズ

TMRシリーズはCISのマイクロレンズの適用のために開発された製品です。フォトリソグラフィー工程にてパターンニングしバリアコート層等にも適用可能。熱加工にて半球体の形状の透明膜層を形成可能です。高透過率、凸レンズ形状(熱フロー)下地との高密着性を有した透明構造体を形成できます。
文中のTMRはTOKの出願中または登録商標です

熱フロータイプ:TMR-P15 PM

熱フロータイプ:TMR-P15 PM

加熱プロセスにて形状を制御

加熱プロセスにて形状を制御

HTSテスト後の透過率測定値

HSTテスト後の透過率測定値

測定サンプル作成条件

測定サンプル :TMR-P17 PM
基板 :1737 ガラス
膜厚 :0.6um
プリベーク :90℃ 90秒
ブリーチ処理 :100mJ (g.h.l-line)
1st ポストベーク :130℃-5分
2nd ポストベーク :200℃-5分
HTS テスト :250℃-60分 (オーブン)

光透過率 データー(%)

光波長 400nm 450nm 500nm 550nm 600nm 630nm
HTS 処理前 97 98 99 99 99 99
HTS 処理後 95 97 99 99 99 99

ご相談は、お気軽にお問い合わせください。

ご質問・ご相談などお気軽に

WEBからのお問い合わせ

お問い合わせ・資料ダウンロード

ご要望やお困りごとがありましたらお問い合わせください。
各製品に関する資料もダウンロードいただけます。

PAGE TOP