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ブラックレジスト
形成膜の均一性・微細性に加え環境特性も得たレジスト
ディスプレイ用途へのフォトリソグラフィの展開として、感光性黒色膜の設計、開発を行なってきております。形成膜の均一性、微細性を得ながらも、永久膜としての環境特性も得ております。
WTP BKシリーズ
フレーム部向けブラックレジスト
遮光膜としての機能に加え、耐薬品性、高密着性など多機能を有するネガ型レジストです。タッチパネルのフレーム用途へご使用いただいております。
カバーガラスのタッチパネル画像
表面抵抗
条件
基板
CS glass (アルカリ処理込み)
プリベーク
100℃ - 120秒/ Direct Hot Plate
膜厚
1.5 um (After Post bake)
露光
ミラープロジェクションアライナー
200mJ/ cm2 15mW (JK-cut)
マスク 200um Gap
ポストベーク
各温度 -60分
形状
条件
基板
CS glass (With Alkali Treatment)
プリベーク
100℃ - 120秒/ Direct Hot Plate
膜厚
1.5 um (After Post bake)
露光
ミラープロジェクションアライナー
200mJ/ cm2 15mW (JK-cut)
マスク 200um Gap
現像
KOH 0.04% 25℃ 各秒数
ポストベーク
240℃-30分
10um マスク
| 現像時間 | |||
|---|---|---|---|
| 50秒 | 60秒 | 70秒 | |
| WTP BKシリーズ |  |
 |
 |
CFPR BKシリーズ
カラーフィルタ用ブラックレジスト
クロム膜のエッチングで形成されていたカラーフィルター用遮光隔壁膜をフォトリソプロセスで形成すべく、設計、開発いたしましたネガ型レジストです。黒色を有し、OD（OpticalDensity）値で4程度の遮光性、高電気抵抗性も有しており、ディスプレイ用カラーフィルター製造へ使用いただいております。
ノーマルタイプ
| 材料特性 | CFPR BK-6161SL |
|---|---|
| OD / 1 μm | 4.5 |
| BM 形状角 | > 50° |
| 寸法幅 | 5.0 μm |
| 表面抵抗 | 10E15Ω |
| 濃度 | 14.5% |
| CFPR BK-6161SL | ||
|---|---|---|
| 40mJ | 60mJ | |
| 50秒 |  6.1 μm |
 7.4 μm |
| 60秒 |  5.4 μm |
 6.5 μm |
| 70秒 |  4.9 μm |
 5.8 μm |
条件
基板
EXG glass
プリベーク
100℃ - 120秒/ Direct Hot Plate
膜厚
1.0 um (After Post bake)
露光
ミラープロジェクションアライナー,
20 mW, 200um Gap,
40, 60mJ/ cm2
現像
KOH 1:100 23℃
ポストベーク
230℃-30分
高抵抗タイプ
| 材料特性 | CFPR BK-7742SL |
|---|---|
| OD / 1 μm | 4.0 |
| BM 形状角 | > 70° |
| 寸法幅 | 5.0 μm |
| 表面抵抗 | 10E15Ω |
| 濃度 | 14.5% |
条件
基板
EXG glass
プリベーク
110℃ - 90秒/
Proximity pin 0.5mm
膜厚
1.3um (After Post bake)
露光
ミラープロジェクションアライナー,
60, 80, 100mJ/ cm2
現像
KOH 0.04% 23℃
ポストベーク
230℃-20分 oven
| 60mJ | 80mJ | 100mJ | |
|---|---|---|---|
| 60秒 |  5.5 μm |
 6.0 μm |
 6.2 μm |
| 70秒 |  4.1 μm |
 4.6 μm |
 4.9 μm |
| 80秒 |  3.3 μm |
 3.9 μm |
 4.1 μm |
文中のCFPRはTOKの出願中または登録商標です
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