関連技術情報

TMMR/TMMFシリーズ

TMMR、 TMMFシリーズは感光性永久膜タイプの構造形成/絶縁層形成用のフォトレジストです。フィルムタイプでは多層により400μm以上の膜厚をカバー可能です。高アスペクト比でのパターニングを可能にします。また、中空構造パターンを形成することも可能です。MEMS、絶縁層、半導体パッケージなど様々なアプリケーションに使用できます。

薬品耐性評価

初期状態

レジスト膜厚 : 30μm L/S : 20μm / 30μm

酸

	23°C / 3h	50°C / 3h
5% H2SO4
5% HCl

アルカリ

	23°C / 3h
2.38 % TMAH
5% NaOH (Line=40 μm)

有機溶剤

	23°C / 3h	50°C / 3h
アセトン
IPA
NMP

感光性フィルムタイプ TMMF NA1000 ( 液体タイプTMMR NA1000PM )　

構造形成と基板接合が一つの材料で可能

• ネガ型ドライフィルムレジスト (溶剤現像タイプ)
• 低温接合対応
• 低自家蛍光、極めて低い細胞毒性 (ISO-10993-5準拠)

フィルムタイプ　プロセスフロー

半導体チップ　対　半導体チップ、半導体チップ　対　各種基板
アプリケーション : 発振素子、MCM、LED、プリンターヘッド、TSV素子接合　

接合強度

自家蛍光

ラミネートするフィルムタイプ TMMF NA1000 、スピン塗布する液体タイプ TMMR NA1000 PM の2種類を製品化しております。

文中のTMMR、TMMFはTOKの出願中または登録商標です

感光性永久膜

TMMF（フィルムタイプ）のフィルム膜厚ラインアップは？

Sシリーズは20，30，45um膜厚の仕様がございます。またNAシリーズ(接着性付与タイプ)は、20, 50umの仕様がございます。

TMMF/Rの上限膜厚はどれくらいですか？

TMMF（フィルムタイプ）は積層することで200umまで実績がございます。
またTMMR（リキッドタイプ）は、一度塗りで10～40umの膜厚が可能で、下限膜厚は 2umです。

断面形状の特徴は？

光学像に忠実な像形成が可能なので、露光条件によっては垂直な形状が得られます。