高感度感光性永久膜

高アスペクトの微細パターンを形成できる高解像感光性永久膜

エポキシ樹脂ベースの高解像感光性永久膜です。高解像、高密着性の特性を有し、高アスペクトの微細パターンの形成が可能です。層間絶縁膜や流路MEMSの中空構造体、SAW/BAWフィルターのRFデバイスへのキャビティ構造体の形成に適用可能です。ラミネート用のフィルムタイプ、スピン塗布用の液タイプをご用意しております。
また、バイオメムス(BioMEMS)に要求される低自家蛍光(Low-Autofluorescence)や低細胞毒性(Low-Cytotoxicity)といった特性を有する製品も取り揃えております。

関連技術情報

TMMR/TMMFシリーズ

TMMR、 TMMFシリーズは感光性永久膜タイプの構造形成/絶縁層形成用のフォトレジストです。フィルムタイプでは多層により400μm以上の膜厚をカバー可能です。高アスペクト比でのパターニングを可能にします。また、中空構造パターンを形成することも可能です。MEMS、絶縁層、半導体パッケージなど様々なアプリケーションに使用できます。

特長

  • 基板との高密着性
  • 優れた耐薬品性
  • 大きな熱抵抗
  • 高アスペクト比を達成する高解像性及び垂直プロファイル
  • 低自家蛍光、極めて低い細胞毒性 (ISO-10993-5準拠)
特徴
MMR/TMMFシリーズ
MMR/TMMFシリーズ
MMR/TMMFシリーズ
MMR/TMMFシリーズ

薬品耐性評価

初期状態

レジスト膜厚 : 30μm
L/S : 20μm / 30μm
レジスト膜厚 : 30 μm L/S : 20μm / 30μm

  23°C / 3h 50°C / 3h
5% H2SO4 23°C / 3h:5% H2SO4 50°C / 3h:5% H2SO4
5% HCl 23°C / 3h:5% HCl 50°C / 3h:5% HCl

アルカリ

  23°C / 3h
2.38 % TMAH 23°C / 3h:2.38 % TMAH
5% NaOH
(Line=40 μm)
23°C / 3h:5% NaOH(Line=40 μm)

有機溶剤

  23°C / 3h 50°C / 3h
アセトン 23°C / 3h:アセトン 50°C / 3h:アセトン
IPA 23°C / 3h:IPA 50°C / 3h:IPA
NMP 23°C / 3h:NMP 50°C / 3h:NMP

感光性フィルムタイプ TMMF NA1000 ( 液体タイプTMMR NA1000PM ) 

構造形成と基板接合が一つの材料で可能

  • ネガ型ドライフィルムレジスト (溶剤現像タイプ)
  • 低温接合対応
  • 低自家蛍光、極めて低い細胞毒性 (ISO-10993-5準拠)
tokご提案

フィルムタイプ プロセスフロー

フィルムタイプ プロセスフロー

半導体チップ 対 半導体チップ、半導体チップ 対 各種基板
アプリケーション : 発振素子、MCM、LED、プリンターヘッド、TSV素子接合 

NC-S0075A-F (膜厚 50mm)
  • 低温キュア (200℃)
  • PGMEA 現像
  • 良好な密着性
  • 適用膜厚範囲(5~60μm)
  • 高耐熱性 (~280℃)
  • 耐薬品性

接合強度

接合強度

自家蛍光

自家蛍光

ラミネートするフィルムタイプ TMMF NA1000 、スピン塗布する液体タイプ TMMR NA1000 PM の2種類を製品化しております。

文中のTMMR、TMMFはTOKの出願中または登録商標です

感光性永久膜

TMMF(フィルムタイプ)のフィルム膜厚ラインアップは?
Sシリーズは20,30,45um膜厚の仕様がございます。またNAシリーズ(接着性付与タイプ)は、20, 50umの仕様がございます。
TMMF/Rの上限膜厚はどれくらいですか?
TMMF(フィルムタイプ)は積層することで200umまで実績がございます。
またTMMR(リキッドタイプ)は、一度塗りで10~40umの膜厚が可能で、下限膜厚は 2umです。
断面形状の特徴は?
光学像に忠実な像形成が可能なので、露光条件によっては垂直な形状が得られます。

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