東京応化工業では、半導体用フォトレジスト事業で培った開発力・対応力・付加価値の高い製品群をベースに新たな分野での需要創出に力を入れています。
詳細をご希望の場合はお気軽にお問い合わせください。多種多様な分野のお客様の開発にお役立ていただければと思います。
技術情報一覧
半導体
ダブルパターンニングとは?
ナノメートル(nm)クラスのプロセスの製造において、ArF液浸露光装置などでは解像できない場合に用いる「ダブルパターニング」について解説します。
ArF液浸用低欠陥ポジ型フォトレジストの開発
ArF液浸露光装置を用いて半導体を加工するための材料「ArF液浸用低欠陥ポジ型フォトレジスト」のご紹介です。
KrF 3D-NAND用厚膜ポジ型フォトレジストの開発
本製品を使用して生産されたチップが、誰もが知っているスマートフォンに使用され、今日も感動を与えています。
半導体最先端プロセス用洗浄液の開発
半導体に付着する未知のゴミを除去する、新しい機能を持った洗浄液の設計・開発にも携わっています。
パワー半導体の製造に貢献している
I線用フォトレジスト
1980年代後半に登場したi線用フォトレジスト。微細化ではKrF用フォトレジストに置き換わった現在でも、活躍の場が広がっています。
半導体実装
TMMR & TMMFシリーズ
(感光性絶縁材料の開発)
小型・軽量という特徴を活かし、携帯電話などの端末の小型化・高性能化・多機能化に貢献する「SAWフィルタ」について紹介します。
TLDPの開発
半導体チップをパッケージに収納するために、ウエハをチップ状に切り出す「ダイシング」工程で活用するTLDPについて解説します。
高速メッキ対応厚膜レジスト
PMER P-CX、P-CZ seriesの開発
最新半導体パッケージの説明と最新パッケージに使用される当社の関連製品の技術の紹介です。
WL-CSP用途向け高速Cu-Pillar
めっき形成材料の開発
スマートフォン用の半導体に採用されている半導体実装技術には当社のパッケージ用フォトレジストが採用されています。その実装技術と当社製品の特長のご説明です。
FO(Fan Outの略)パッケージ用途向け
Cu再配線形成材料の開発
チップサイズの制限を受けず、マルチチップ化に対応するファンアウトパッケージについて、当社の技術を紹介します。
センサー
新規ポリマーを用いた高耐熱・高透明なマイクロレンズレジストの開発
医療用や車載向けのカメラにも幅広く活用されるイメージセンサー。ここには、当社の「マイクロレンズレジスト」が使用されています。
ディスプレイ
高精細液晶パネル用
ハーフトーンフォトスペーサーの開発
フォトリソグラフィーによって形成される柱状の「フォトスペーサー(PS)」について説明します。
FPD用高解像ポジ型フォトレジストの開発 TFR-D1700/750/793
東京応化工業は、ディスプレイ向けの高精細フォトレジストの開発に、他社に先駆けて成功し、多くの商品に活用されています。