ウェットエッチング用レジスト

酸性、アルカリ性どちらのエッチャントにも耐性をもつネガレジスト

酸性、アルカリ性エッチャントのどちらにも耐性を持ったゴム系レジストと、酸系エッチャントによるウェットエッチング処理にて微細パターン形成が可能な、g線、i線、KrF ポジ及びネガの両タイプのフォトレジストをご用意しております。

酸性・アルカリ性エッチャントに耐性を持ったゴム系ネガレジストです。ゴム系樹脂を主原料に使用しているため、密着性及び薬液耐性に優れノボラック樹脂系ポジ型レジストに比べ長時間のウェットエッチング工程に対応し、サイドエッチング量を小さくできます。

基板との密着性を向上させたG線ノボラック樹脂系ポジ型フォトレジストです。酸系エッチャントのウェットエッチングに適用可能です。ゴム系ネガレジストに比べ解像性に優れており微細なパターンのウェットエッチングが可能となります。

ウェットエッチングに適用可能な基板密着性に優れたポジティブトーン、ネガティブトーンの両タイプのi線レジストご用意しております。