
構造形成と基板結合が可能な感光性構造形成材料を各種取り揃えています。
光学部材向けの特殊用途フォトレジスト、DSA材料、感光性永久膜などのご用命は、東京応化工業までお気軽にお問い合わせください。

高解像、高密着性で高アスペクトの微細パターンの形成が可能な、エポキシ樹脂ベースの高解像感光性永久膜です。

メムスセンサー、CISマイクロレンズなどに適用可能な、高透過率・高信頼性の膜を形成できる特殊用途フォトレジストです。

微細加工への先端プロセスの一環として、DSA(Directed Self Assembly)Process用材料の開発を進めています。
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