下層反射防止膜(BARC)とは
下層反射防止膜(BARC)とは、フォトレジスト層の下に配置され、基板からの光の反射を防ぎます。これにより、露光時のレジスト層内での干渉による定在波を原因とした側壁形状変動、ならびに寸法変動を防ぎ、リソグラフィーの精度を向上させることが可能です。
当社のBARC材は残留性有機汚染物質として国際的に製造、使用が規制されているPFOS、PFOA材を含まない製品を供給しております。
主要材料ラインナップ
I線 | KrF | |
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BARC | SWK-T7 | SWK-EX4 |
*上記製品はすべてNon-PFOS、Non-PFOAです。
ARC ; Anti-Reflective Coating
文中のTSP、SWKはTOKの出願中または登録商標です
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