PFAS-Freeでの持続可能な社会へ
革新的な材料技術で環境と産業の調和を目指します。
PFAS-Freeへの取り組みについて
PFAS（有機フッ素化合物）は、半導体製造をはじめとする多くの産業で利用されてきました。しかし、環境中で分解されにくく、長期的な残留性が問題視され、国際的に規制が強化されています。
東京応化工業は、この課題に正面から向き合い、PFAS-Freeレジストの開発を推進しています。私たちは、独自の高分子設計技術・微細加工技術・高純度化技術を融合させ、性能を維持しながらPFASを含まない材料を実現しました。
革新的な材料技術を通じて、産業と環境の調和を実現し、次世代の半導体製造に貢献します。
PFAS-FreeレジストLineup
東京応化工業は、半導体製造に不可欠なフォトレジストにおいて、PFAS-Freeを実現したLineupを提供しています。KrFレジストにおいてはF-Freeを実現しています。以下は代表的なPFAS-Freeレジストです。
SEMICON Japan 2025へ出展します。
東京応化工業は、SEMICON Japan 2025においてPFAS-Freeレジストの取り組みを紹介するパネル展示を行います。
展示では、PFAS-Free技術のについて詳しくご覧いただけます。
ぜひ当社ブースにお立ち寄りいただき、持続可能な半導体製造の未来をご体感ください。
