東京応化工業株式会社
2025年12月17日から3日間、東京ビッグサイトで開催された国内最大級の半導体国際展示会「SEMICON Japan 2025」に、東京応化工業が出展いたしました。
今年のテーマは「AI×サステナビリティ×半導体」。世界中から約1,200社が集まり、来場者は10万人規模という熱気あふれる展示会となりました。
東京応化工業のブース（南展示棟 S2117）では、当社のコア技術であるフォトレジストや関連材料を中心に展示を行いました。
今回特に注目を集めたのは、「PFASフリーレジスト」の開発に関する取り組みです。環境への配慮と高い性能を両立させるこの技術は、これからの半導体製造に欠かせないものであり、多くの来場者様からご質問や期待の声をいただきました。
今回の展示では、東京応化工業が誇る微細加工技術や高分子材料技術を応用した、以下の製品を紹介しました。
フォトレジストは、半導体製造におけるフォトリソグラフィ工程で使用される感光性材料です。露光によって化学的性質が変化し、シリコンウエハ上に微細なパターンを形成します。このプロセスは、半導体の微細化と高性能化を実現するための基盤であり、最先端デバイスの進化に不可欠な技術です。
TOKの強みは、最先端の微細化技術に対応する高解像度・低欠陥・高感度のフォトレジストを提供しています。また、幅広い製品ラインアップと顧客密着型の対応で、多様なニーズに応え、次世代半導体の開発を力強くサポートしています。
TOKは環境負荷低減に向け、PFAS-freeレジストを開発しました。従来と同等の高解像度・高感度を維持しながら、持続可能な半導体製造を実現します。
わずか2nm以下の薄さで、ガラスやプラスチックを「超親水化」するコーティング材です。光学特性を損なわず、汚れにくくする効果があり、医療や光学機器分野で注目されています。
医療・バイオ分野の「ラボオンチップ」などに使われる、微細な流路を作るための材料です。複雑な立体構造も光を使って高精度に形成できるのが強みです。
無数のナノ孔を持つ高機能フィルムです。熱や薬品に強く、セパレータや細胞培養など、幅広い用途で活躍します。
ご来場いただいた皆様、誠にありがとうございました。
東京応化工業はこれからも、半導体技術をベースに、環境に優しく持続可能な社会の実現に貢献してまいります。次回の展示会では、さらに進化した技術をお見せできるよう研究開発を進めてまいりますので、どうぞご期待ください！