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2011年09月27日

FPD International 2011 出展のお知らせ
会  期  2011年10月26日(水)~28日(金)  10時~17時
場  所  パシフィコ横浜
出展製品 高精細I線フォトレジスト / フォトスペーサー用材料 / 表面改質用装置・スリットノズル塗布技術 / 永久膜材料(感光性厚膜材料、屈折率膜材料)
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2011年08月29日

FPD International China 2011/Beijing Summit 出展のお知らせ
会  期  2011年9月5日(月)~6日(火)
場  所  中国・北京 国家会議中心
出展製品  LCD-CF用ブラックレジスト / 永久膜材料 / TFTアレイ用フォトレジスト
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2011年03月30日

材料のパネル内容を差し替えました。 ⇒材料のパネルを見る

2011年03月16日

総合カタログを改訂しました。 ⇒カタログを見る

2011年03月01日

寄稿論文 「有機EL用フォトレジスト」を追加しました。 ⇒寄稿論文ページを見る

Web展示会の見どころ

LCD・LED・タッチパネル・OLED・有機EL等の開発・製造ソリューション

東京応化のWEB展示会では、COOの低減、高付加価値化の実現を目指した、FPD(LCD・LED・タッチパネル・OLED・有機EL等)製造プロセスに最適な電子材料(フォトレジスト等)及び製造装置を発表します。 第10世代に向けた、エア浮上システム(FCS)によるフォトレジスト塗布装置は、「スピンレス」塗布装置を大幅に上回るタクト性能、基板の大型化を実現可能にしました。

東京応化工業の紹介

東京応化工業(TOK)は、半導体(TSV・MEMS含む)や太陽電池(PV)・フラットパネルディスプレイ(FPD)の製造に必要なフォトレジスト(感光性樹脂)などの化学薬品、製造装置を提供している会社です。

注目の展示(MEMS・TSV・WHS)

新技術紹介

エア浮上システムのメカニズムをCGにて解説。 MEMS・半導体パッケージの詳細情報はこちら